綠碳化矽是砂輪代號GC砂輪適用於加工硬質合(he)金，玻璃，陶(tao)瓷和非(fei)金屬(shu)材料外，還(huai)用於半導體材料，高溫矽碳棒(bang)發熱體，遠紅(hong)外源基材等,其主要采用的拋光方法有：
1、流體拋光：流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜(xie)帶的磨粒衝刷工件表麵達(da)到拋光的目的。常用方法有：綠碳化矽的金剛砂噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由(you)液壓驅動，使攜(xie)帶磨粒的液體介質通過(guo)噴砂槍高速往複(fu)流過(guo)工件表麵。介質主要采用在較低(di)壓力下流過(guo)性好的特殊化合(he)物(wu)並摻上綠碳化矽製成，綠碳化矽可采用綠碳化矽的碳化矽粉末。

2、機械拋光：機械拋光是靠切削材料表麵塑性變(bian)形(xing)去掉被拋光後的凸部而得(de)到平滑麵的拋光方法，一般使用油石(shi)條、羊毛輪、砂紙，砂帶，尼龍輪等，磨光片(pian)以手工操作為(wei)主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台等輔(fu)助(zhu)工具，表麵質量要求(qiu)高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用綠碳化矽特製的綠碳化矽，在含(han)有綠碳化矽的研拋液中，緊壓在工件被加工表麵上，作高速旋(xuan)轉運(yun)動。是各種拋光方法中zui高的。光學鏡片(pian)模具常采用這(zhe)種方法。
3、電解拋光：電解拋光基本原(yuan)理與化學拋光相同(tong)，即靠選擇性的溶解材料表麵微小(xiao)凸出(chu)部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極(ji)反應的影響，效果較好。電化學拋光過(guo)程分宏觀整平，微觀整平。
4、化學拋光：化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出(chu)的部分較凹(ao)部分優(you)先溶解，從而得(de)到平滑麵。這(zhe)種方法的主要優(you)點是不需(xu)複(fu)雜設備，可以拋光形(xing)狀(zhuang)複(fu)雜的工件，可以同(tong)時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配(pei)製。
5、超聲波拋光：將(jiang)工件放入(ru)綠碳化矽懸浮液中並一起置於超聲波場中，依靠超聲波的振蕩(dang)作用，使綠碳化矽在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小(xiao)，不會(hui)引起工件變(bian)形(xing)，但工裝製作和安裝較困(kun)難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合(he)。在溶液腐蝕、電解的基礎(chu)上，再(zai)施加超聲波振動攪(jiao)拌溶液，使工件表麵溶解產物(wu)脫(tuo)離，表麵附近的腐蝕或電解質均(jun)勻;超聲波在液體中的空化作用還(huai)能夠抑製腐蝕過(guo)程，利於表麵光亮化。
6、磁研磨拋光：磁研磨拋光是利用磁性綠碳化矽在磁場作用下形(xing)成綠碳化矽刷，磨光片(pian)對工件磨削加工。這(zhe)種方法加工效率高，質量好，加工條件容易(yi)控製，工作條件好。采用合(he)適的綠碳化矽，表麵粗糙度可以達(da)到。